El BOE publica la compra de un equipo PECVD para el IMN-CSIC

Impulso a la microfabricación: contrato formalizado para nuevas líneas de nanoprocesado en Tres Cantos

El Boletín Oficial del Estado (BOE) publica hoy, viernes 31 de octubre de 2025, la formalización de un contrato del Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) destinado al Instituto de Micro y Nanotecnología (IMN-CSIC), en Tres Cantos (Madrid). El objeto del expediente es la adquisición, instalación y puesta en marcha de un sistema de depósito químico en fase de vapor asistido por plasma (PECVD), junto con el tratamiento de gases residuales del proceso. La operación, tramitada por procedimiento abierto, refuerza las capacidades de micro y nanofabricación del laboratorio de referencia de la red estatal.

Según el anuncio, el suministro se estructura en dos lotes: el primero, relativo al equipo PECVD, y el segundo, a un sistema para el abatimiento seguro de efluentes gaseosos. La combinación de ambos permite producir, de forma controlada y con estándares de seguridad industrial, capas finas de materiales dieléctricos y semiconductores en obleas de silicio y otros sustratos. La publicación en el BOE supone el cierre administrativo del proceso de licitación y habilita el calendario de instalación, validación metrológica y entrada en operación, con impacto inmediato en líneas de investigación y servicios científico-técnicos del IMN-CSIC.

Qué cambia con el nuevo PECVD: aplicaciones y retorno para España

La tecnología PECVD es una herramienta esencial en microelectrónica, fotónica integrada, sensores MEMS y recubrimientos de alto rendimiento. Permite depositar, a temperaturas relativamente bajas, películas de SiO₂, SiNₓ, a-Si:H u otras capas compuestas clave para guiar luz, aislar dispositivos, proteger superficies o ajustar tensiones de película. Para empresas y grupos académicos que colaboran con el IMN-CSIC, disponer de una plataforma de última generación con control preciso de plasma, flujo y temperatura acorta plazos de desarrollo y mejora la trazabilidad de procesos. Además, el lote de tratamiento de gases introduce garantías ambientales en un entorno regulado por normativa de seguridad y salud, un requisito crítico para ampliar turnos de trabajo en sala limpia.

El movimiento llega en un momento de demanda creciente en España de capacidades de prototipado avanzado, impulsadas por el PERTE Chip y por programas regionales de I+D. El ecosistema de Madrid —en el que el IMN-CSIC actúa como nodo de micro y nanofabricación— sirve a colaboraciones con universidades, pymes tecnológicas y grandes compañías. La disponibilidad de un PECVD con recetas estables y repetibles facilita, por ejemplo, la fabricación de guías de onda para fotónica de silicio, encapsulados protectores para sensores biofísicos o capas dieléctricas de puerta en dispositivos experimentales. En el frente formativo, el nuevo equipo habilita prácticas y estancias con aprendizaje directo en procesos de sala blanca, fortaleciendo la empleabilidad en sectores de semiconductores y óptica integrada.

En términos operativos, la formalización publicada hoy activa el cronograma típico: recepción en fábrica, transporte y anclaje, conexión a utilities (vacío, electricidad, gases de proceso y de purga), calificación IQ/OQ/PQ y liberación de recetas certificadas. A partir de ahí, el IMN-CSIC podrá ofrecer ventanas de reserva para usuarios internos y externos, bajo tarifas públicas y con soporte técnico. El sistema de abatimiento incorporado, asociado al Lote 2, está diseñado para minimizar emisiones de subproductos (por ejemplo, precursores silanos o halogenados) y cumplir con los límites de vertido gaseoso en instalaciones de investigación. La modernización también reduce tiempos muertos y deriva menos mantenimiento correctivo, un aspecto especialmente valorado por los equipos que publican en plazos ajustados o desarrollan prototipos para convocatorias competitivas.

• Publicación: hoy, 31/10/2025 (BOE, Sección V-A), formalización de contrato del CSIC para el IMN-CSIC.
• Objeto: «suministro, instalación y puesta en marcha» de un sistema PECVD y un tratamiento de gases residuales.
• Estructura: dos lotes (equipo PECVD y abatimiento de efluentes), procedimiento abierto.
• Ubicación: Instituto de Micro y Nanotecnología (Tres Cantos, Madrid).
• Impacto: refuerzo de capacidades en microelectrónica, fotónica, MEMS y recubrimientos; mayor seguridad y control ambiental.

"Suministro, instalación y puesta en marcha de un sistema de depósito destinado al Instituto de Micro y Nanotecnología […] Lote 1: equipo PECVD; Lote 2: tratamiento de gases residuales. Procedimiento: abierto". — Anuncio de formalización, BOE, 31/10/2025.

Contexto y fuentes: BOE (anuncio de formalización del CSIC para el IMN-CSIC con detalle de lotes y procedimiento); CSIC (información institucional y cartera de infraestructuras); documentación técnica y guías de buenas prácticas de sala limpia para PECVD y tratamiento de efluentes.